2025
- auteur
- Jack Nos, Sylvain Iséni, Martin Kogelschatz, Gilles Cunge, Philippe Lefaucheux, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Émilie Despiau-Pujo
- titre
- Cryogenic cyclical etching of Si using CF$_4$ plasma passivation steps: The role of CF radicals
- article
- Applied Physics Letters, 2025, Featured Collection, 126 (3), pp.031602. ⟨10.1063/5.0245217⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/5.0245217
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-
2024
- auteur
- Elane Kouadou, Sylvain Iséni, Arnaud Stolz, Philippe Lefaucheux, Rémi Dussart
- titre
- Discharge characteristics of silicon-based DC Helium microplasmas: comparison between Through Silicon Via and closed cavity type micro-reactors
- article
- Plasma Sources Science and Technology, 2024, 33 (11), pp.115002. ⟨10.1088/1361-6595/ad8a87⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/1361-6595/ad8a87
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-
- auteur
- Jack Nos, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel
- titre
- Evaluation of Bosch processing and C4F 8 plasma deposition at cryogenic temperatures
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2024, 34 (10), pp.105011. ⟨10.1088/1361-6439/ad7a08⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/1361-6439/ad7a08
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-
- auteur
- Gottlieb Oehrlein, Stephan Brandstadter, Robert Bruce, Jane Chang, Jessica Demott, Vincent Donnelly, Rémi Dussart, Andreas Fischer, Richard Gottscho, Satoshi Hamaguchi, Masanobu Honda, Masaru Hori, Kenji Ishikawa, Steven Jaloviar, Keren Kanarik, Kazuhiro Karahashi, Akiteru Ko, Hiten Kothari, Nobuyuki Kuboi, Mark Kushner, Thorsten Lill, Pingshan Luan, Ali Mesbah, Eric Miller, Shoubhanik Nath, Yoshinobu Ohya, Mitsuhiro Omura, Chanhoon Park, John Poulose, Shahid Rauf, Makoto Sekine, Taylor Smith, Nathan Stafford, Theo Standaert, Peter Ventzek
- titre
- Future of plasma etching for microelectronics: Challenges and opportunities
- article
- Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2024, 42 (4), ⟨10.1116/6.0003579⟩
- DOI
- DOI : 10.1116/6.0003579
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-
2023
- auteur
- Rémi Dussart, R. Ettouri, J. Nos, G. Antoun, T. Tillocher, P. Lefaucheux
- titre
- Cryogenic etching of silicon compounds using a CHF 3 based plasma
- article
- Journal of Applied Physics, 2023, 133 (11), pp.113306. ⟨10.1063/5.0142056⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/5.0142056
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-
- auteur
- Lamiae Hamraoui, Tinghui Zhang, Angela Crespi, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Mohamed Boufnichel, Rémi Dussart
- titre
- Atomic layer etching of gallium nitride using fluorine-based chemistry
- article
- Journal of Vacuum Science & Technology A, 2023, 41 (3), pp.032602. ⟨10.1116/6.0002452⟩
- DOI
- DOI : 10.1116/6.0002452
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-
2022
- auteur
- Gaelle Antoun, Thomas Tillocher, Aurélie Girard, Philippe Lefaucheux, J. Faguet, H. Kim, D. Zhang, M. Wang, K. Maekawa, Christophe Cardinaud, Rémi Dussart
- titre
- Cryogenic nanoscale etching of silicon nitride selectively to silicon by alternating SiF 4 /O 2 and Ar plasmas
- article
- Journal of Vacuum Science & Technology A, 2022, 40 (5), pp.052601. ⟨10.1116/6.0001885⟩
- DOI
- DOI : 10.1116/6.0001885
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-
- auteur
- G. Antoun, A. Girard, T. Tillocher, P. Lefaucheux, J. Faguet, K. Maekawa, C. Cardinaud, R. Dussart
- titre
- Quasi In Situ XPS on a SiO x F y Layer Deposited on Silicon by a Cryogenic Process
- article
- ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2022, 11 (1), pp.013013. ⟨10.1149/2162-8777/ac4c7d⟩
- DOI
- DOI : 10.1149/2162-8777/ac4c7d
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-
- auteur
- Rim Ettouri, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Vincent Fernandez, Neal Fairley, Christophe Cardinaud, Aurélie Girard, Rémi Dussart
- titre
- Combined analysis methods for investigating titanium and nickel surface contamination after plasma deep etching
- article
- Surface and Interface Analysis, 2022, 54 (2), pp.134-147. ⟨10.1002/sia.7030⟩
- DOI
- DOI : 10.1002/sia.7030
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-
2021
- auteur
- Gaelle Antoun, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Jacques Faguet, Kaoru Maekawa, Rémi Dussart
- titre
- Mechanism understanding in cryo atomic layer etching of SiO2 based upon C4F8 physisorption
- article
- Scientific Reports, 2021, 11 (1), pp.357. ⟨10.1038/s41598-020-79560-z⟩
- DOI
- DOI : 10.1038/s41598-020-79560-z
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-
- auteur
- Thomas Tillocher, Jack Nos, Gaëlle Antoun, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Rémi Dussart
- titre
- Comparison between Bosch and STiGer Processes for Deep Silicon Etching
- article
- Micromachines, 2021, 12 (10), pp.1143. ⟨10.3390/mi12101143⟩
- DOI
- DOI : 10.3390/mi12101143
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-
2020
- auteur
- Sebastian Dzikowski, Ronan Michaud, Henrik Böttner, Rémi Dussart, Marc Böke, Volker Schulz-von Der Gathen
- titre
- Modular constructed metal-grid arrays—an alternative to silicon-based microplasma devices for catalytic applications
- article
- Plasma Sources Science and Technology, 2020, 29 (3), pp.035028. ⟨10.1088/1361-6595/ab71f6⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/1361-6595/ab71f6
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-
2019
- auteur
- Gaelle Antoun, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Rémi Dussart, Kumiko Yamazaki, Koichi Yatsuda, Jacques Faguet, Kaoru Maekawa
- titre
- Cryo atomic layer etching of SiO 2 by C F8 physisorption followed by Ar plasma
- article
- Applied Physics Letters, 2019, 115 (15), pp.153109. ⟨10.1063/1.5119033⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.5119033
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-
- auteur
- Gaelle Antoun, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Christophe Cardinaud, Aurélie Girard, Shigeru Tahara, Kumiko Yamazaki, Koichi Yatsuda, Jacques Faguet, Kaoru Maekawa
- titre
- The role of physisorption in the cryogenic etching process of silicon
- article
- Japanese Journal of Applied Physics, 2019, 58 (SE), pp.SEEB03. ⟨10.7567/1347-4065/ab1639⟩
- DOI
- DOI : 10.7567/1347-4065/ab1639
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-
- auteur
- Sylvain Iséni, Ronan Michaud, Philippe Lefaucheux, Goran Sretenović, Volker Schulz-von Der Gathen, Remi Dussart
- titre
- On the validity of neutral gas temperature by emission spectroscopy in micro-discharges close to atmospheric pressure
- article
- Plasma Sources Science and Technology, 2019, 28 (6), pp.065003. ⟨10.1088/1361-6595/ab1dfb⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/1361-6595/ab1dfb
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-
2018
- auteur
- Romain Chanson, Liping Zhang, Sergej Naumov, Yuri Mankelevich, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Rémi Dussart, Stefan de Gendt, Jean-François de Marneffe
- titre
- Damage-free plasma etching of porous organo-silicate low-k using micro-capillary condensation above −50 °C
- article
- Scientific Reports, 2018, 8, pp.1886. ⟨10.1038/s41598-018-20099-5⟩
- DOI
- DOI : 10.1038/s41598-018-20099-5
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-
- auteur
- Mukesh Kulsreshath, Alexane Vital, Philippe Lefaucheux, Christophe Sinturel, Thomas Tillocher, Marylène Vayer, Mohamed Boufnichel, Rémi Dussart
- titre
- High aspect ratio etched sub-micron structures in silicon obtained by cryogenic plasma deep-etching through perforated polymer thin films
- article
- Micro and Nano Engineering, 2018, 1, pp.42-48. ⟨10.1016/j.mne.2018.10.007⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.mne.2018.10.007
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-
- auteur
- Edouard Laudrel, Thomas Tillocher, Yannick Meric, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Rémi Dussart
- titre
- The effect of SF 6 addition in a Cl 2 /Ar inductively coupled plasma for deep titanium etching
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2018, 28 (5), ⟨10.1088/1361-6439/aaafe7⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/1361-6439/aaafe7
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Ronan Michaud, Valentin Felix, Arnaud Stolz, Olivier Aubry, Philippe Lefaucheux, Sebastian Dzikowski, Volker Schulz-von Der Gathen, Lawrence Overzet, Rémi Dussart
- titre
- Direct current microhollow cathode discharges on silicon devices operating in argon and helium
- article
- Plasma Sources Science and Technology, 2018, 27 (2), pp.025005. ⟨10.1088/1361-6595/aaa870⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/1361-6595/aaa870
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-
2017
- auteur
- Joe Sakai, Erwann Luais, Jérôme Wolfman, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Francois Tran-Van, Fouad Ghamouss
- titre
- Cryogenic plasma-processed silicon microspikes as a high-performance anode material for lithium ion-batteries
- article
- Journal of Applied Physics, 2017, 122 (15), pp.155103. ⟨10.1063/1.4997713⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.4997713
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-
- auteur
- Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Violetta Georgieva, Rémi Dussart, Erik Neyts, Annemie Bogaerts
- titre
- Concurrent effects of wafer temperature and oxygen fraction on cryogenic silicon etching with SF6/O2 plasmas
- article
- Plasma Processes and Polymers, 2017, 14 (9), pp.1700018. ⟨10.1002/ppap.201700018⟩
- DOI
- DOI : 10.1002/ppap.201700018
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-
- auteur
- Alexane Vital, Marylène Vayer, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Mohamed Boufnichel, Christophe Sinturel
- titre
- Morphology control in thin films of PS: PLA homopolymer blends by dip-coating deposition
- article
- Applied Surface Science, 2017, 393, pp.127-133. ⟨10.1016/j.apsusc.2016.09.151⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.apsusc.2016.09.151
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-
2016
- auteur
- Valentin Felix, Philippe Lefaucheux, Olivier Aubry, Judith Golda, Volker Schulz-von Der Gathen, Lawrence J. Overzet, Remi Dussart
- titre
- Origin of microplasma instabilities during DC operation of silicon based microhollow cathode devices
- article
- Plasma Sources Science and Technology, 2016, 25, pp.025021. ⟨10.1088/0963-0252/25/2/025021⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0963-0252/25/2/025021
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Wassim Kafrouni, Thomas Tillocher, Julien Ladroue, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson, Rémi Dussart
- titre
- Parametric study of STiGer etching process in order to reduce extended formation of scalloping defects on the sidewalls of silicon submicron trenches
- article
- Vacuum, 2016, 133, pp.90. ⟨10.1016/j.vacuum.2016.08.019⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.vacuum.2016.08.019
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-
- auteur
- Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Erik Neyts, Annemie Bogaerts
- titre
- Elucidating the effects of gas flow rate on an SF6 inductively coupled plasma and on the silicon etch rate, by a combined experimental and theoretical investigation
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2016, 49 (38), pp.385201. ⟨10.1088/0022-3727/49/38/385201⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/49/38/385201
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Liping Zhang, Jean-Francois de Marneffe, Floriane Leroy, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Kaoru Maekawa, Koichi Yatsuda, Christian Dussarrat, Andy Goodyear, Cooke Mike, Stefan de Gendt, Mikhail Baklanov
- titre
- Mitigation of plasma-induced damage in porous low-k dielectrics by cryogenic precursor condensation
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2016, 49 (17), pp.175203. ⟨10.1088/0022-3727/49/17/175203⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/49/17/175203
- Accès au bibtex
-
2015
- auteur
- Nicolas Gosset, Mohamed Boufnichel, Emilie Bahette, Walid Khalfaoui, Rami Ljazouli, Virginie Grimal, Remi Dussart
- titre
- Single and multilayered materials processing by argon ion beam etching: study of ion angle incidence and defect formation
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2015, 25, pp.095011. ⟨10.1088/0960-1317/25/9/095011⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0960-1317/25/9/095011
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Floriane Leroy, Liping Zhang, Thomas Tillocher, Koichi Yatsuda, Kaoru Maekawa, Eichi Nishimura, Philippe Lefaucheux, Jean-Francois de Marneffe, Mikhail Baklanov, Remi Dussart
- titre
- Cryogenic etching processes applied to porous low-k materials using SF6/C4F8 plasmas
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2015, 48, pp.435202. ⟨10.1088/0022-3727/48/43/435202⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/48/43/435202
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Rémi Dussart, Annemie Bogaerts
- titre
- Cryogenic etching of silicon with SF6 inductively coupled plasmas: a combined modelling and experimental study
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2015, 48, pp.155204. ⟨10.1088/0022-3727/48/15/155204⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/48/15/155204
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Alexane Vital, Marylène Vayer, Christophe Sinturel, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Mohamed Boufnichel
- titre
- Modification of poly(styrene) thin films and enhancement of cryogenic plasma etching resistance by ruthenium tetroxide vapor staining
- article
- Polymer, 2015, 76, pp.123-130. ⟨10.1016/j.polymer.2015.08.062⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.polymer.2015.08.062
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Alexane Vital, Marylène Vayer, Christophe Sinturel, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart
- titre
- Polymer masks for structured surface and plasma etching
- article
- Applied Surface Science, 2015, 332, pp.237. ⟨10.1016/j.apsusc.2015.01.040⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.apsusc.2015.01.040
- Accès au bibtex
-
2014
- auteur
- Pierre-Antoine Cormier, A. Balhamri, Anne-Lise Thomann, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Thomas Lecas, R. Snyders, Stephanos Konstantinidis
- titre
- Titanium oxide thin film growth by magnetron sputtering: Total energy flux and its relationship with the phase constitution
- article
- Surface and Coatings Technology, 2014, Vol 254 (2014), Volume 254, 15 September 2014, Pages 291-297. ⟨10.1016/j.surfcoat.2014.06.037⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.surfcoat.2014.06.037
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Remi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel
- titre
- Plasma cryogenic etching of silicon: from the early days to today's advanced technologies
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2014, pp.123001. ⟨10.1088/0022-3727/47/12/123001⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/47/12/123001
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Mariem El Mokh, Amaël Caillard, Nadjib Semmar, Rémi Dussart, Thomas Lecas, Anne-Lise Thomann
- titre
- Energy Transferred From a Hot Nickel Target During Magnetron Sputtering
- article
- IEEE Transactions on Plasma Science, 2014, pp.Plasma Science, IEEE Transactions on (Volume:PP Issue: 99 ). ⟨10.1109/TPS.2014.2338742⟩
- DOI
- DOI : 10.1109/TPS.2014.2338742
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Judith Golda, Mukesh Kulsreshath, H Boettner, Valentin Felix, Remi Dussart, V Schulz-von Der Gathen
- titre
- Circular Emission and Destruction Patterns on a Silicon-Based Microdischarge Array
- article
- IEEE Transactions on Plasma Science, 2014, 42 (10), pp.2646. ⟨10.1109/TPS.2014.2337657⟩
- DOI
- DOI : 10.1109/TPS.2014.2337657
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Mukesh Kulsreshath, Judith Golda, V. Schulz-von Der Gathen, Remi Dussart
- titre
- Width dependent interaction of trench-like microdischarges arranged in sub-arrays on a single silicon based chip
- article
- Plasma Sources Science and Technology, 2014, 23, pp.045012. ⟨10.1088/0963-0252/23/4/045012⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0963-0252/23/4/045012
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Remi Dussart
- titre
- Alternated process for the deep etching of titanium
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2014, 24, pp.075021. ⟨10.1088/0960-1317/24/7/075021⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0960-1317/24/7/075021
- Accès au bibtex
-
2013
- auteur
- Pierre-Antoine Cormier, Anne Lise Thomann, Vincent Dolique, A. Balhamri, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Thomas Lecas, Pascal Brault, R. Snyders, Stephanos Konstantinidis
- titre
- IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
- article
- Thin Solid Films, 2013, pp.547(2013) 44-49. ⟨10.1016/j.tsf.2013.07.025⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.tsf.2013.07.025
- Accès au bibtex
-
- auteur
- P.-A. Cormier, A.-L. Thomann, Vincent Dolique, A. Balhamri, R. Dussart, N. Semmar, T. Lecas, P. Brault, R. Snyders, S. Konstantinidis
- titre
- IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
- article
- Thin Solid Films, 2013, 545, pp.44-49. ⟨10.1016/j.tsf.2013.07.025⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.tsf.2013.07.025
- Accès au texte intégral et bibtex
-
- auteur
- Pierre-Antoine Cormier, A. Balhamri, Anne-Lise Thomann, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Jacky Mathias, R. Snyders, Stephanos Konstantinidis
- titre
- Measuring the energy flux at the substrate position during magnetron sputter deposition processes
- article
- Journal of Applied Physics, 2013, 113, pp.013305. ⟨10.1063/1.4773103⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.4773103
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-
- auteur
- M. K. Kulsreshath, N. Sadeghi, L. Schwaederle, T. Dufour, L. J. Overzet, P. Lefaucheux, R. Dussart
- titre
- Ignition and extinction phenomena in helium micro hollow cathode discharges
- article
- Journal of Applied Physics, 2013, 114 (24), pp.243303. ⟨10.1063/1.4858418⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.4858418
- Accès au texte intégral et bibtex
-
- auteur
- Nasreddine Mekkakia Maaza, Remi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson
- titre
- A novel amorphization-etch alternating process for Si(100)
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2013, 23, pp.045023. ⟨10.1088/0960-1317/23/4/045023⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0960-1317/23/4/045023
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Anne-Lise Thomann, Pierre-Antoine Cormier, Vincent Dolique, Nadjib Semmar, Remi Dussart, Thomas Lecas, Blandine Courtois, Pascal Brault
- titre
- Energy transferred to the substrate surface during reactive magnetron sputtering of aluminum in Ar/O2 atmosphere
- article
- Thin Solid Films, 2013, 539, pp.88. ⟨10.1016/j.tsf.2013.05.075⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.tsf.2013.05.075
- Accès au texte intégral et bibtex
-
- auteur
- Liping Zhang, Rami Ljazouli, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Yuri Mankelevich, Jean-Francois de Marneffe, Stefan de Gendt, Mikhail Baklanov
- titre
- Low Damage Cryogenic Etching of Porous Organosilicate Low-k Materials Using SF6/O2/SiF4
- article
- ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2013, 2 (6), pp.N131. ⟨10.1149/2.001306jss⟩
- DOI
- DOI : 10.1149/2.001306jss
- Accès au bibtex
-
2012
- auteur
- Sergey Abolmasov, Pierre-Antoine Cormier, A. Torres Rios, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Anne-Lise Thomann, Pere Roca I Cabarrocas
- titre
- Probing dusty-plasma/surface interactions with a heat flux microsensor
- article
- Applied Physics Letters, 2012, pp.100, 1, 011601. ⟨10.1063/1.3674290⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.3674290
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Thomas Defforge, Gaël Gautier, Thomas Tillocher, Remi Dussart, François Tran-Van
- titre
- Elaboration of high aspect ratio monocrystalline silicon suspended nanobridges by low temperature alkaline treatment of dry etched trenches
- article
- Journal of Vacuum Science & Technology A, 2012, 30 (1), pp.010601. ⟨10.1116/1.3665217⟩
- DOI
- DOI : 10.1116/1.3665217
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Mukesh Kulsreshath, Laurent Schwaederlé, Lawrence J. Overzet, Philippe Lefaucheux, Julien Ladroue, Thomas Tillocher, Olivier Aubry, M. Woytasik, G. Schelcher, Remi Dussart
- titre
- Study of dc micro-discharge arrays made in silicon using CMOS compatible technology
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2012, 45, pp.285202. ⟨10.1088/0022-3727/45/28/285202⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/45/28/285202
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-
- auteur
- Laurent Schwaederlé, Mukesh Kulsreshath, Lawrence J. Overzet, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart
- titre
- Breakdown study of dc silicon micro-discharge devices
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2012, 45, pp.065201. ⟨10.1088/0022-3727/45/6/065201⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/45/6/065201
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-
- auteur
- Liping Zhang, Rami Ljazouli, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Yuri Mankelevich, Jean-Francois de Marneffe, Stefan de Gendt, Mikhail Baklanov
- titre
- Damage Free Cryogenic Etching of a Porous Organosilica Ultralow-k Film
- article
- Electrochemical and Solid-State Letters, 2012, 2 (2), pp.N5. ⟨10.1149/2.007302ssl⟩
- DOI
- DOI : 10.1149/2.007302ssl
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-
2011
- auteur
- Thomas Defforge, Xi Song, Gaël Gautier, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Sébastien Kouassi, François Tran-Van
- titre
- Scalloping removal on DRIE via using low concentrated alkaline solutions at low temperature
- article
- Sensors and Actuators A: Physical , 2011, 170 (1-2), pp.114. ⟨10.1016/j.sna.2011.05.028⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.sna.2011.05.028
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-
- auteur
- Corinne Y. Duluard, Pierre Ranson, Laurianne E. Pichon, Jeremy Pereira, El-Houcine Oubensaid, Philippe Lefaucheux, Michel Puech, Remi Dussart
- titre
- Alternating SiCl4/O2 passivation steps with SF6 etch steps for silicon deep etching
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2011, 21, pp.065015
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-
- auteur
- Thomas Tillocher, Wassim Kafrouni, Julien Ladroue, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson, Remi Dussart
- titre
- Optimization of submicron deep trench profiles with the STiGer cryoetching process: reduction of defects
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2011, 21, pp.085005. ⟨10.1088/0960-1317/21/8/085005⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0960-1317/21/8/085005
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-
2010
- auteur
- L Bedra, a L Thomann, N Semmar, R Dussart, J Mathias
- titre
- Highly sensitive measurements of the energy transferred during plasma sputter deposition of metals
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2010, 43 (6), pp.65202. ⟨10.1088/0022-3727/43/6/065202⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/43/6/065202
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-
- auteur
- Pierre-Antoine Cormier, Marc Stahl, Anne-Lise Thomann, Rémi Dussart, Matthias Wolter, Nadjib Semmar, Jacky Mathias, Holger Kersten
- titre
- On the measurement of energy fluxes in plasmas using a calorimetric probe and a thermopile sensor
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2010, 43 (46), pp.465201. ⟨10.1088/0022-3727/43/46/465201⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0022-3727/43/46/465201
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-
- auteur
- Thierry Dufour, Lawrence J. Overzet, Remi Dussart, L. C. Pitchford, N Sadeghi, P Lefaucheux, M Kulsreshath, P Ranson
- titre
- Experimental study and simulation of a micro-discharge with limited cathode area
- article
- The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.565-574. ⟨10.1140/epjd/e2010-00273-6⟩
- DOI
- DOI : 10.1140/epjd/e2010-00273-6
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-
- auteur
- Remi Dussart, Lawrence J. Overzet, Philippe Lefaucheux, Thierry Dufour, Mukesh Kulsreshath, Monali Mandra, Thomas Tillocher, Olivier Aubry, Sébastien Dozias, Pierre Ranson, Jeong Bong Lee, Matthew Goeckner
- titre
- Integrated micro-plasmas in silicon operating in helium
- article
- The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.601-608. ⟨10.1140/epjd/e2010-00272-7⟩
- DOI
- DOI : 10.1140/epjd/e2010-00272-7
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-
- auteur
- Lawrence J. Overzet, D. Jung, Monali Mandra, Matthew Goeckner, Thierry Dufour, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux
- titre
- RF impedance measurements of DC atmospheric micro-discharges
- article
- The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.449-454. ⟨10.1140/epjd/e2010-00274-5⟩
- DOI
- DOI : 10.1140/epjd/e2010-00274-5
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-
- auteur
- Julien Ladroue, Aline Meritan, Mohamed Boufnichel, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, Remi Dussart
- titre
- Deep GaN etching by inductively coupled plasma and induced surface defects
- article
- Journal of Vacuum Science & Technology A, 2010, 28 (5), pp.1226. ⟨10.1116/1.3478674⟩
- DOI
- DOI : 10.1116/1.3478674
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-
- auteur
- Lawrence J. Overzet, D. Jung, Monali Mandra, Matthew Goeckner, Thierry Dufour, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux
- titre
- RF impedance measurements of DC atmospheric micro-discharges
- article
- The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.449. ⟨10.1140/epjd/e2010-00274-5⟩
- DOI
- DOI : 10.1140/epjd/e2010-00274-5
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-
2009
- auteur
- Corinne Y. Duluard, Pierre Ranson, Laurianne E. Pichon, El-Houcine Oubensaid, Jeremy Pereira, Philippe Lefaucheux, Michel Puech, Remi Dussart
- titre
- Neutral species in inductively coupled SF6/SiCl4 plasmas
- article
- Journal of Physics D: Applied Physics, 2009, 42, pp.115206
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-
- auteur
- El-Houcine Oubensaid, Corinne Y. Duluard, Laurianne E. Pichon, B. Morillon, Mohamed Boufnichel, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Pierre Ranson
- titre
- Cryogenic etching of n-type silicon with p+ doped walls with the TGZM process through the Al/Si eutectic alloy
- article
- Microelectronic Engineering, 2009, 86, pp.2262. ⟨10.1016/j.mee.2009.04.002⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.mee.2009.04.002
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-
- auteur
- El-Houcine Oubensaid, Corinne Y. Duluard, Laurianne E. Pichon, Jeremy Pereira, Mohamed Boufnichel, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Pierre Ranson
- titre
- Effect of the addition of SF6 and N2 in inductively coupled SiCl4 plasma for GaN etching
- article
- Semiconductor Science & Technology, 2009, 24, pp.075022. ⟨10.1088/0268-1242/24/7/075022⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0268-1242/24/7/075022
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Jeremy Pereira, Laurianne E. Pichon, Remi Dussart, Christophe Cardinaud, Corinne Y. Duluard, El-Houcine Oubensaid, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
- titre
- In situ x-ray photoelectron spectroscopy analysis of SiOxFy passivation layer obtained in a SF6/O2 cryoetching process
- article
- Applied Physics Letters, 2009, 94, pp.071501. ⟨10.1063/1.3085957⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.3085957
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-
2008
- auteur
- Thierry Dufour, Remi Dussart, P Lefaucheux, P Ranson, Lawrence J. Overzet, M Mandra, J.-B Lee, M Goeckner
- titre
- Effect of limiting the cathode surface on direct current microhollow cathode discharge in helium
- article
- Applied Physics Letters, 2008, 93 (071508), ⟨10.1063/1.2966144͔⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.2966144͔
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-
- auteur
- Thierry Dufour, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, Lawrence J. Overzet, Monali Mandra, Jeong B. Lee, Matthew Goeckner
- titre
- Effect of limiting the cathode surface on direct current microhollow cathode discharge in helium
- article
- Applied Physics Letters, 2008, 93, pp.071508. ⟨10.1063/1.2966144⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.2966144
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Corinne Y. Duluard, Remi Dussart, Thomas Tillocher, Laurianne E. Pichon, Philippe Lefaucheux, Michel Puech, Pierre Ranson
- titre
- SO2 passivating chemistry for silicon cryogenic deep etching
- article
- Plasma Sources Science and Technology, 2008, 17, pp.045008. ⟨10.1088/0963-0252/17/4/045008⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/0963-0252/17/4/045008
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Remi Dussart, Anne-Lise Thomann, Laurianne E. Pichon, Larbi Bedra, Nadjib Semmar, Philippe Lefaucheux, Jacky Mathias, Yves Tessier
- titre
- Direct measurements of the energy flux due to chemical reactions at the surface of a silicon sample interacting with a SF6 plasma
- article
- Applied Physics Letters, 2008, 93, pp.131502. ⟨10.1063/1.2995988⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/1.2995988
- Accès au texte intégral et bibtex
-
- auteur
- Remy Dussart, Anne-Lise Thomann, Laurianne E. Pichon, Larbi Bedra, Nadjib Semmar, Philippe Lefaucheux, Yves Tessier, Jacky Mathias
- titre
- Direct measurements of the energy flux due to chemical reactions at the surface of silicon sample interacting with SF6 plasma
- article
- Applied Physics Letters, 2008, 93, pp.131502
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Thomas Tillocher, Remi Dussart, Lawrence J. Overzet, Xavier Mellhaoui, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
- titre
- Two Cryogenic Processes Involving SF6, O2, and SiF4 for Silicon Deep Etching
- article
- Journal of The Electrochemical Society, 2008, 155 (3), pp.D187. ⟨10.1149/1.2826280⟩
- DOI
- DOI : 10.1149/1.2826280
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-
2007
- auteur
- Remi Dussart, Xavier Mellhaoui, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
- titre
- The passivation layer formation in the cryo-etching plasma process
- article
- Microelectronic Engineering, 2007, 84, pp.1128. ⟨10.1016/j.mee.2007.01.048⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.mee.2007.01.048
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Thomas Tillocher, Remi Dussart, Xavier Mellhaoui, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
- titre
- Silicon cryo-etching of deep holes
- article
- Microelectronic Engineering, 2007, 84, pp.1120. ⟨10.1016/j.mee.2007.01.148⟩
- DOI
- DOI : 10.1016/j.mee.2007.01.148
- Accès au bibtex
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2006
- auteur
- Anne Lise Thomann, Nadjib Semmar, Rémi Dussart, Jacky Mathias, Vladislav Lang
- titre
- Diagnostic system for plasma/surface energy transfer characterization
- article
- Review of Scientific Instruments, 2006, 77 (2), pp.033501-6
- Accès au bibtex
-
- auteur
- Emmanuel Odic, Alice Goldman, Max Goldman, Marielle Dhainaut, Rémi Dussart
- titre
- CURRENT DISTRIBUTION OF AC SURFACE DISCHARGES AND ASSOCIATED CHEMISTRY
- article
- Journal of Electrostatics, 2006, 64 (7-9), pp.477-484
- Accès au texte intégral et bibtex
-
- auteur
- Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Xavier Mellhaoui, Remi Dussart, Pierre Ranson, Mohamed Boufnichel, Lawrence J. Overzet
- titre
- Oxidation threshold in silicon etching at cryogenic temperatures
- article
- Journal of Vacuum Science & Technology A, 2006, 24 (4), pp.1073. ⟨10.1116/1.2210946⟩
- DOI
- DOI : 10.1116/1.2210946
- Accès au texte intégral et bibtex
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