Publications HAL de Nos du labo/EPI GREMI

2025

auteur
Jack Nos, Sylvain Iséni, Martin Kogelschatz, Gilles Cunge, Philippe Lefaucheux, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Émilie Despiau-Pujo
titre
Cryogenic cyclical etching of Si using CF$_4$ plasma passivation steps: The role of CF radicals
article
Applied Physics Letters, 2025, Featured Collection, 126 (3), pp.031602. ⟨10.1063/5.0245217⟩
DOI
DOI : 10.1063/5.0245217
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https://hal.science/hal-04905588/file/AIP_APL_2025_10.1063_5.0245217_PostPrint.pdf BibTex

2024

auteur
Jack Nos, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel
titre
Evaluation of Bosch processing and C4F 8 plasma deposition at cryogenic temperatures
article
Journal of Micromechanics and Microengineering, 2024, 34 (10), pp.105011. ⟨10.1088/1361-6439/ad7a08⟩
DOI
DOI : 10.1088/1361-6439/ad7a08
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2023

auteur
Rémi Dussart, R. Ettouri, J. Nos, G. Antoun, T. Tillocher, P. Lefaucheux
titre
Cryogenic etching of silicon compounds using a CHF 3 based plasma
article
Journal of Applied Physics, 2023, 133 (11), pp.113306. ⟨10.1063/5.0142056⟩
DOI
DOI : 10.1063/5.0142056
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https://hal.science/hal-04038959/file/JAP23-AR-00119.pdf BibTex

2021

auteur
Thomas Tillocher, Jack Nos, Gaëlle Antoun, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Rémi Dussart
titre
Comparison between Bosch and STiGer Processes for Deep Silicon Etching
article
Micromachines, 2021, 12 (10), pp.1143. ⟨10.3390/mi12101143⟩
DOI
DOI : 10.3390/mi12101143
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