2023
- auteur
- Rémi Dussart, R. Ettouri, J. Nos, G. Antoun, T. Tillocher, P. Lefaucheux
- titre
- Cryogenic etching of silicon compounds using a CHF 3 based plasma
- article
- Journal of Applied Physics, 2023, 133 (11), pp.113306. ⟨10.1063/5.0142056⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/5.0142056
- Accès au texte intégral et bibtex
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2021
- auteur
- Thomas Tillocher, Jack Nos, Gaëlle Antoun, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Rémi Dussart
- titre
- Comparison between Bosch and STiGer Processes for Deep Silicon Etching
- article
- Micromachines, 2021, 12 (10), pp.1143. ⟨10.3390/mi12101143⟩
- DOI
- DOI : 10.3390/mi12101143
- Accès au bibtex
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