2025
- auteur
- Jack Nos, Sylvain Iséni, Martin Kogelschatz, Gilles Cunge, Philippe Lefaucheux, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Émilie Despiau-Pujo
- titre
- Cryogenic cyclical etching of Si using CF$_4$ plasma passivation steps: The role of CF radicals
- article
- Applied Physics Letters, 2025, Featured Collection, 126 (3), pp.031602. ⟨10.1063/5.0245217⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/5.0245217
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-
2024
- auteur
- Jack Nos, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel
- titre
- Evaluation of Bosch processing and C4F 8 plasma deposition at cryogenic temperatures
- article
- Journal of Micromechanics and Microengineering, 2024, 34 (10), pp.105011. ⟨10.1088/1361-6439/ad7a08⟩
- DOI
- DOI : 10.1088/1361-6439/ad7a08
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-
2023
- auteur
- Rémi Dussart, R. Ettouri, J. Nos, G. Antoun, T. Tillocher, P. Lefaucheux
- titre
- Cryogenic etching of silicon compounds using a CHF 3 based plasma
- article
- Journal of Applied Physics, 2023, 133 (11), pp.113306. ⟨10.1063/5.0142056⟩
- DOI
- DOI : 10.1063/5.0142056
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2021
- auteur
- Thomas Tillocher, Jack Nos, Gaëlle Antoun, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Rémi Dussart
- titre
- Comparison between Bosch and STiGer Processes for Deep Silicon Etching
- article
- Micromachines, 2021, 12 (10), pp.1143. ⟨10.3390/mi12101143⟩
- DOI
- DOI : 10.3390/mi12101143
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